Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd
Alvos de pulverização para revestimento

Alvo de molibdênio Alvo planar de Moly

Lugar de origem : Shaanxi, China (continente)
Marca : YUNCH
tamanho normal : thickness≥10mm
tamanho normal : width≤500mm
tamanho normal : length≤1500mm
Aplicação : indústria de processamento de pvd / coting / semicondutor
Forma : rodada, placa, tubo
Material : Titânio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensões : como personalizado
Composição Química : Metal
pó ou não : não poder
Palavras - chave : sputtering target for Vaccum Coating
Técnica : forjar, moer, brilhante
cor : Metálico
Pureza : 2N8-5N
Certificação : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : Sputtering target, Round target,
Tolerância parcial : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspeção : exame ultra-sônico, teste de pressão da água.

Products Specifications:


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Descrição do Produto

Nome do item

alvos de molibdênio

Pureza

99,99% ~ 99,995%

Forma

Alvo redondo / de acordo com seu pedido

Tamanho disponível

1. & Oslash; 30--2000mm, espessura 3.0mm-300mm

2.Plate Targe: Comprimento: 200-500mm Largura: 100-230mm Espessura: 3-40mm

3. personalizado está disponível

Certificados

ISO9001: 2008, GV, o terceiro relatório de teste

Technics

Forjado e Usinado CNC

Superfície

Superfície do torno CNC.

Aplicação

1. Galvanoplastia;
2. Engenharia química e tecnologia petroquímica;
3. Médico


Nome do Produto alvo de molibdênio
Origem baoji cidade província de Shaanxi china
forma alvo de placa
Conteúdo de titânio & g; 99,8 (%)
Conteúdo impureza <0,02>
Densidade 4,51 ou 4,50
Alvo de placa 60/80/120 (W) e tempos; 6/8/12 (T) e tempos; 519/525/620 (L) e 60-800 (W) e tempos; 6-40 (T) e tempos; 600-2000 (L)
Alvo de tubo 0.1-30.0mm (WT) * 3-350mm (OD) * 50-15000mm
Aplicação

Separação de semicondutores, materiais de revestimento de filme, revestimento de eletrodo de armazenamento, revestimento de Sputtering, revestimento de superfície, indústria de revestimento de vidro.


Alvo de alta pureza de sputtering de metal

Alumínio

Al

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 6N

Chronium

Cr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N ~ 3N5

Titânio

Ti

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Índio

Dentro

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Germânio

Ge

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 6N

Silício

Si

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 6N

Cobre

Cu

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Molibdênio

Mo

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Nióbio

Nb

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Tatalum

Ta

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N5

Tungstênio

W

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Háfnio

Hf

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N

Vanádio

V

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N5 ~ 3N

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