Shaanxi Yunzhong Industry Development Co., Ltd

Tântalo alvos 99,99% planar alvo

Nome de produto: tântalo sputtering alvo Execução padrão: B708-98 especificações: diâmetro de alvo circular (25-400) mm (3-28mm) * especificações-alvo quadrado espessura: (1-12.7) de espessura de * mm (10-600) mm * comprimento largura (200-2000) mm tolerância: a tolerância do diâmetro de + / - 0.254...

Products Specifications:

Nome de produto:pulverização catódica alvo de tântalo

Execução padrão: B708-98

Especificações: diâmetro de alvo circular (25-400) mm (3-28mm) * espessura

Quadrado especificações-alvo: (1-12.7) de espessura de * mm (10-600) mm * mm comprimento-largura (200-2000)

Tolerância: a tolerância do diâmetro de + / - 0.254

Marca: RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2.5 w), RO5255 (Ta-10W)

Pureza: 99,9%

Recristalização: pelo menos 95%

Tamanho do grão: mínimo 40 m

Aspereza de superfície: Ra 0,8 máximo

Nivelamento: ou 0,1 mm 0,10% máximo.

Alvos de chapas de tântalo

Química compostion

GR

Main

outros % máximo

Ta

NB

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

NB

Ó

C

H

N

-Prima

lembrar

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta2

lembrar

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

lembrar

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

lembrar

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

Ta2.5W

lembrar


0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

lembrar


0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01




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