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Alvos de pulverização para revestimento

Alvo Sputtering Titanium 2 '' Dia * 0,25 '' grosso

Alvo Sputtering Titanium 2 '' Dia * 0,25 '' grosso

Lugar de origem : Shaanxi, China (continente)
Marca : YUNCH
tamanho normal : Diameter30 ~ 2000mm
Aplicação : indústria de processamento de pvd / coting / semicondutor
Material : Titânio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensões : como personalizado
Composição Química : Metal
pó ou não : não poder
Palavras - chave : sputtering target for Vaccum Coating
Técnica : forjar, moer, brilhante
cor : Metálico
Pureza : 2N8 ~ 5N
Certificação : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : Sputtering target, Round target,
Tolerância parcial : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspeção : exame ultra-sônico, teste de pressão da água.
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Sputtering de titânio alvo 2 '' dia * 0,25 '' espessura


Descrição do Produto

Dimensão

Diâmetro30-2000mm, espessura3.0-300mm ou como o pedido dos clientes

Grau de titânio

Gr1 Gr2 Gr3 Gr4 Gr5 Gr6 Gr7 Gr9 Gr11 Gr12 GR23

Certificação

ISO 9001: 2008 e Gold suppier no ALIBABA, Relatório de teste de moinho de materiais

Padrão

ASTM F67, ASTM F136 ASTM B381

Especificação

Personalizado como pedido

Processo

Forjado, rolando, moendo

Aplicação

1. Galvanoplastia;

2. Engenharia química e tecnologia petroquímica;

3. Médico

Densidade / país da margem

4,51g / cm3 / Baoji, província de shaanxi

Alvo de alta pureza de sputtering de metal

Alumínio

Al

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 6N

Chronium

Cr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N ~ 3N5

Platina

Pt

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Níquel

Ni

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Cobalto

Co

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Zircônio

Zr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N2 ~ 4N

Titânio

Ti

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Cobre

Cu

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Molibdênio

Mo

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Nióbio

Nb

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Tatalum

Ta

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N5

Tungstênio

W

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Háfnio

Hf

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N

Vanádio

V

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N5 ~ 3N




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