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Chapa / folha de titânio

Alvo de titânio sputtering para PVD LCD

Lugar de origem : Shaanxi, China (continente)
Marca : YUNCH
tamanho normal : Diameter30 ~ 2000mm
Aplicação : indústria de processamento de pvd / coting / semicondutor
Material : Titânio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensões : como personalizado
Composição Química : Metal
pó ou não : não poder
Palavras - chave : sputtering target for Vaccum Coating
Técnica : forjar, moer, brilhante
cor : Metálico
Pureza : 2N8 ~ 5N
Certificação : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : Sputtering target, Round target,
Tolerância parcial : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspeção : exame ultra-sônico, teste de pressão da água.
...

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Alvo de alta pureza de sputtering de metal

Alumínio

Al

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 6N

Chronium

Cr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N ~ 3N5

Platina

Pt

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Níquel

Ni

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Cobalto

Co

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Zircônio

Zr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N2 ~ 4N

Titânio

Ti

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Cobre

Cu

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Molibdênio

Mo

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Nióbio

Nb

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Tatalum

Ta

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N5

Tungstênio

W

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Háfnio

Hf

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N

Vanádio

V

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N5 ~ 3N


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