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Alvos de pulverização para revestimento

Liga de tungstênio Round Square Target Plate

Lugar de origem : Shaanxi, China (continente)
Marca : YUNCH
Marca : TUNGSTÊNIO
tamanho normal thickness≥10 ~ 45mm
tamanho normal Diameter≤100mm
Aplicação : indústria de processamento de pvd / coting / semicondutor
Vidro low-E, células fotovoltaicas, dispositivos eletrônicos e decoração
Forma : rodada, placa, tubo
Material : Titânio, Zr, Ni, Al, TiAl, Nb
Dimensões : como personalizado
Composição Química : Metal
pó ou não : não poder
Palavras - chave : sputtering target for Vaccum Coating
Técnica : forjar, moer, brilhante
Cor : metálico
Pureza : 2N8-5N
Certificação : ISO, EN10204 3.1, EN10204 3.2
Tipo : Sputtering target, Round target,
Tolerância parcial : ± 0,05
Ra : 1.6-6.3
Inspeção : exame ultra-sônico, teste de pressão da água.
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Descrição do Produto

Nome do item

alvos de tungstênio

Pureza

99,95%

Forma

Alvo redondo / de acordo com seu pedido

Tamanho disponível

1. & Oslash; 30--2000mm, espessura 3.0mm-300mm

2.Plate Targe: Comprimento: 200-500mm Largura: 100-230mm Espessura: 3-40mm

3. personalizado está disponível

Certificados

ISO9001: 2008, GV, o terceiro relatório de teste

Technics

Forjado e Usinado CNC

Superfície

Superfície do torno CNC.

Aplicação

1. Galvanoplastia;
2. Engenharia química e tecnologia petroquímica;
3. Médico


Alvo de alta pureza de sputtering de metal

Alumínio

Al

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 6N

Chronium

Cr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N ~ 3N5

Zircônio

Zr

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N2 ~ 4N

Titânio

Ti

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N ~ 5N

Molibdênio

Mo

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N ~ 4N

Nióbio

Nb

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Tatalum

Ta

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

4N5

Tungstênio

W

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N5

Háfnio

Hf

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

3N

Vanádio

V

alvo esférico, redondo, plano, rotativo

2N5 ~ 3N

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